Proceso de 600 nm

Fabricación de dispositivos semiconductores
Escalado de MOSFET ( nodos de proceso )
0,20 μm  – 1968 0 10 μm  – 1971 00 6 μm  – 1974 00 3 μm  – 1977  1,5 micras  – 1981 00 1 μm  – 1984 800 nm  – 1987 600 nm – 1990 350 millas náuticas  – 1993 250 nm  – 1996 180 nm  – 1999 130 millas náuticas  – 2001 0,90 millas náuticas  – 2003 0,65 millas náuticas  – 2005 0,45 millas náuticas  – 2007 0,32 millas náuticas  – 2009 0,28 millas náuticas  – 2010 0,22 millas náuticas  – 2012 0,14 millas náuticas  – 2014 0 10 millas náuticas  – 2016 00 7 nm  – 2018 00 5 millas náuticas  – 2020 00 3 millas náuticas  – 2022
Futuro 00 2 nm  ~ 2025
Seminodos Densidad CMOS Dispositivo ( multipuerta ) Ley de Moore Conteo de transistores Semiconductor Industria Nanoelectrónica
en a mi

El proceso de 600 nanómetros ( proceso de 600 nm ) es un nivel de tecnología de proceso de semiconductores que se alcanzó en el período 1994-1995, por la mayoría de las empresas líderes de semiconductores, como Intel e IBM . ^[1]

• La CPU Intel 80486DX4 lanzada en 1994 se fabricó utilizando este proceso.
• IBM / Motorola PowerPC 601 , el primer chip PowerPC, se produjo en 600 nm.
• Las CPU Intel Pentium (P54C) a 75 MHz, 90 MHz y 100 MHz también se fabricaron utilizando este proceso.

Este artículo relacionado con la nanotecnología es un esbozo . Puedes ayudar a Wikipedia expandiéndolo.

• v
• t
• e