Sílice 2D

Polimorfo del dióxido de silicio
Vistas superior y lateral del grafeno (izquierda) y de las estructuras de HBS (derecha). Los átomos rojos son oxígenos. [1]
Modelos e imágenes TEM de defectos en HBS (centro) y grafeno (fila inferior): Stone-Wales (a), flor (b), divacancia (c) y un defecto intersticial más complejo (d). [1]
Imágenes TEM de HBS amorfo

La sílice bidimensional ( sílice 2D ) es un polimorfo en capas del dióxido de silicio . Hasta ahora se han cultivado dos variedades de sílice 2D, ambas de simetría cristalina hexagonal, en varios sustratos metálicos. Una se basa en tetraedros de SiO 4 , que están unidos covalentemente al sustrato. La segunda comprende láminas completamente saturadas similares al grafeno , que interactúan con el sustrato a través de enlaces débiles de van der Waals . Una lámina de la segunda variedad de sílice 2D también se llama sílice bicapa hexagonal ( HBS ); puede tener una estructura ordenada o desordenada (amorfa). [1]

La sílice 2D tiene aplicaciones potenciales en electrónica como el dieléctrico de compuerta más delgado . También se puede utilizar para aislar láminas de grafeno del sustrato. [1] La sílice 2D es un semiconductor de banda ancha, cuya banda ancha y geometría se pueden diseñar mediante un campo eléctrico externo. Se ha demostrado que es un miembro de la familia de materiales auxéticos con un coeficiente de Poisson negativo. [2]

Referencias

  1. ^ abcd Björkman, T; Kurasch, S; Lehtinen, O; Kotakoski, J; Yazyev, OV; Srivastava, A; Skakalova, V; Smet, JH; Kaiser, U; Krasheninnikov, AV (2013). "Defectos en sílice bicapa y grafeno: tendencias comunes en diversos sistemas hexagonales bidimensionales". Scientific Reports . 3 : 3482. Bibcode :2013NatSR...3E3482B. doi :10.1038/srep03482. PMC  3863822 . PMID  24336488.
  2. ^ Özçelik, V. Ongun; Cahangirov, S.; Ciraci, S. (20 de junio de 2014). "Estructura estable de sílice en forma de panal de una sola capa". Physical Review Letters . 112 (24): 246803. arXiv : 1406.2674 . Código Bibliográfico :2014PhRvL.112x6803O. doi :10.1103/PhysRevLett.112.246803. PMID  24996101.


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